La capacidad de reducir las dimensiones de la función de los transistores basados en silicio ha permitido a la industria del semiconductor mejorar el rendimiento, aumentar la velocidad y reducir el precio de los circuitos integrados en los últimos 55 años. a finales de 1960, Gordon Moore predijo que la densidad del transistor para un circuito integrado se duplicaría cada 18 meses (ley de Moore). Hasta ahora, la industria de semiconductores ha sido capaz de seguir la ley de Moore mejorando los atributos de la resolución de las herramientas de fotolitografía. A Fotolitografía herramienta es un sistema óptico que proyecta la imagen de una máscara (que representa una capa de un circuito integrado) sobre una oblea que ha sido revestida con un material sensible a la luz (resistir). Después de la exposición, la resistencia se desarrolla para revelar un patrón que se transfiere a la superficie de la oblea a través de técnicas de grabado. Semiconductor analistas han teorizado que por 2010 herramientas de fotolitografía con fuentes de luz 157-nm acercarán a su límite de resolución teórica (120 nm).